一、基本信息

蔡宏中，男，1978年生，中共党员，博士研究生毕业，正高级工程师，博士研究生导师，云南省技术创新人才。

二、主要教育及工作经历

1996.9-2000.7  中南大学材料学  大学本科

2002.9-2005.7  昆明贵金属研究所材料学  硕士研究生

2012.9-2021.6  昆明理工大学材料学  博士研究生

2000.7-2001.6  云南铝业股份有限公司碳素分厂

2005-07至今 昆明贵金属研究所

三、主要研究领域

主要从事贵金属、难熔金属、高温抗氧化涂层材料化学气相沉积制备其应用，钛基钎焊材料的制备及应用研究。

四、代表性成果

（一）获奖情况

1.中国有色金属工业自然科学奖一等奖，难熔金属层状复合材料CVD制备关键技术及应用，2017年 11 月（排名第3）

2.中国有色金属工业科技进步奖二等奖，铼/铱燃烧室CVD铌与铌合金连接技术研究，2010年 11 月（排名第4）

（二）科研项目

1.主持（排名第1）“CVD Ta涂层表面活性调控及耐蚀机理研究”，云南省基金重点项目，项目经费：50万元，起止时间：2020.9-2023.8

2.主持（排名第1）“化学气相沉积钽涂层表面膜层生长动力学机制及耐蚀性能研究”，国家基金项目，项目经费：35万元，起止时间：2021.1-2024.12

3.主持（排名第1）“大尺寸碳基材料沉积钽可控制备成型规律及应用基础研究”，云南贵金属实验室科技计划项目，项目经费：80万元，起止时间：2022.10-2024.6

（三）发表论文

1. Growth of hafnium dioxide thin films via metal-organic chemical vapor deposition, Materials Research Express, 2021年8月（通讯作者）

2.Influence of crystal planes on corrosion behavior of tantalum: Experimental and first-principles study，International Journal of Electrochemical Science, 2022年4月（通讯作者）

3.Effect of Argon ion etching Treatments on Anodic Oxide Film Growth and Electrochemical Properties of Tantalum，Journal of Materials Research and Technology, 2022年8月（通讯作者）

4.Effect of Deposition Temperature on the Surface, Structural, and Mechanical Properties of HfO2 Using Chemical Vapor Deposition (CVD)，2022年9月（通讯作者）

（四）授权专利

1.发明专利（ZL201210141534.7），一种Nb-W合金及其制备方法，2013年11月（排名第3）

2.发明专利（ZL201810972105.1），一种二氧铪涂层及其制备方法，2019年8月（排名第3）

3.发明专利（ZL201110011880.9），Ta/W层状复合材料及其制备方法，2015年12月（排名第3）

4.发明专利（ZL200810233660.9），Nb/Re层状复合材料及其制 备方法，2013年4月（排名第4）

5.发明专利（ZL202010376203.6），一种铼喷管用抗氧化涂层及其制备方法、铼-抗氧化涂层喷管，2021年4月（排名第3）